Shenzhen Institite of Advanced Electronic Materials

链入 历史 最后 删除%5B%5BWP%3ACSD%23G10%7CG10%5D%5D%3A+%E5%8E%9F%E4%BD%9C%E8%80%85%E6%B8%85%E7%A9%BA%E9%A0%81%E9%9D%A2%E6%88%96%E6%8F%90%E5%87%BA%E5%88%AA%E9%99%A4%EF%BC%8C%E4%B8%94%E5%AF%A6%E9%9A%9B%E8%B2%A2%E7%8D%BB%E8%80%85%E5%8F%AA%E6%9C%89%E4%B8%80%E4%BA%BA%EF%BC%9B%E7%BF%BB%E8%AF%91%E5%87%BA%E9%94%99%EF%BC%8C%E8%8B%B1%E6%96%87%E9%A1%B5%E9%9D%A2%E8%B7%B3%E8%BD%AC%E4%BF%9D%E5%AD%98%E8%87%B3%E4%B8%AD%E6%96%87%E7%BB%B4%E5%9F%BA 管理员注意! 请对照以下删除理由判断本页是否具备执行快速删除的理据： G1或empty 没有实际内容的页面 G2或test 测试页面 G3、r4、attack、van或g6 纯粹破坏，包括但不限于明显的恶作剧、错误信息、人身攻击等 G5或rep 曾经根据頁面存廢討論、侵權審核或檔案存廢討論結果删除後又重新創建的内容，而有關內容與已刪除版本相同或非常相似，無論標題是否相同。 G10、author或ad 原作者清空頁面或提出刪除，且實際貢獻者只有一人 G11或spam 明顯的廣告宣傳頁面，或只有相关人物或團體的聯繫方法的页面 G12或bio 未列明可靠來源且語調負面的生者傳記 G13或mt 翻譯拙劣 G14或nc 超過兩周沒有進行任何翻譯的非現代標準漢語页面 G15、orphan、r1或o2 孤立页面，比如没有主页面的讨论页、指向空页面的重定向等 G16或temp 頁面與介紹相同事物的原頁面同樣侵权 G17、wrongdab或wd 位於不恰當的命名空間的消歧義頁面 G18或a5 條目或草稿建立時，內容即與其他現有條目或草稿或其歷史版本的內容完全相同或非常相似，且名稱不適合作為其他條目之重新導向（不包括拆分、合併、重組後產生之條目，或是引用相關資料之條目） A1、context或g4 内容空泛（包括但不限於沒有定義） A2或text 內容只包括外部链接、参见、图书参考、分类、模板、跨语言链接的条目（消歧義頁、重定向、軟重定向除外） A3或g7 複製自其他中文维基项目，或是與其他中文维基项目內容相同的文章 A6或foreign 复制自其他维基百科语言版本，且完全没有翻译 R2、interwk或g9 跨命名空间的重定向 R3或wr 格式錯誤，或明显笔误的重定向 R5或br 指向本身或循环的重定向 R6 移動檔案而產生的重定向，且頁面標題不符合檔案名稱指引 R7 明顯與導向目標所涵蓋的主題無關或比導向目標所涵蓋的主題更廣泛的重定向 R8、dabr或dr 帶有「(消歧義)」字樣的重定向 F1、i1或reppic 重复的檔案（完全相同或缩小），而且不再被條目使用 F3 所有在提報後超過5天仍來源不明的檔案 F4 所有在提報後超過5天仍未知版權或版權無法被查證的檔案 F5、i5或betterpic 被高解析度或SVG檔案取代的圖片 F6、i6或ui 沒有被條目使用的非自由版权檔案会在提交5日后刪除 F7、i7或nowcommons 与維基共享資源檔案重复的檔案 F8 明顯侵權之檔案會在提報5日後刪除 F9 沒有填寫任何合理使用依據的非自由版權檔案會在提交5日後刪除 F10 可被替代的非自由版权文件會在提交5日後刪除 O1、aup或o6 用户请求删除自己的用户页或其子页面 O3或ip 已超過一個月未有編輯動作的IP用户的用户讨论页，且已完成存檔 O4、o5或uc 空分类 O7 廢棄草稿 O8 在偽命名空間中建立的非重新導向頁面 本页可能符合快速删除的標準而需删除，理由： 原作者清空頁面或提出刪除，且實際貢獻者只有一人（CSD G10） 翻译出错，英文页面跳转保存至中文维基 請勿移除本模板。如有異議，請在本模板下方加入{{Hang on|理由}}，並儘快到讨论页闡明理據。 其他編者若認為本頁明顯不符合快速删除的标准，可去除此模板。

本條目包含過多不是現代標準漢語的內容，歡迎協助翻译。 依循维基百科快速删除的标准，若於2024年2月19日（此模板放置2周）後仍未改善，此模板会自动請求快速删除。 若已有內容譯為中文（现代汉语），可逕自去除本模板，或修改為 {{subst:Translating/auto}}。 Articles not written in Chinese (Standard Mandarin) will be requested for speedy deletion.

Shenzhen Institite of Advanced Electronic Materials

SIEM front door
从属于	Shenzhen Institute of Advanced Technology
成立时间	2019年，​5年前​（2019）
总裁	Sun Rong
地理位置	ChinaShenzhen
网址	www.siem.ac.cn

Shenzhen Institite of Advanced Electronic Materials (SIEM) was established in 2019, focuses on high-end electronic packaging materials for integrated circuits. It is one of the top ten institutes in Shenzhen jointly established by Shenzhen Institute of Advanced Technology and the People's Government of Bao'an District of Shenzhen City. ^[1]

History[编辑]

On January 6, 2019, Wang Weizhong awarded the Electronic Materials Institute a license; on April 26 , and on the 27^th, the Shenzhen Advanced Institute of Technology and the Baoan District Government Signed a contract to jointly build SIEM; on May 20, the first board of directors of the SIEM announced its establishment and held its first meeting; on June 19, SIEM was registered and established as a municipal-level second-class public institution. ^[2]

On December 30, 2020, SIEM held an opening ceremony and landed in Longwangmiao Industrial Park. ^[3]

Position[编辑]

A neutral, forward-looking, open and shared R&D platform for advanced electronic materials. ^[1]

Mission[编辑]

Focus on goal orientation (industrial applications in the field of electronic information), discover real problems, solve real problems, and really solve problems, build a high-end electronic materials R&D and transformation innovation ecosystem ^[1]

Vision[编辑]

A globally influential high-end electronic materials industrial technology research and transformation center. ^[1]

Core value[编辑]

Seek truth from facts, be brave and tenacious, be open and inclusive, and pursue excellence. ^[1]

Reference[编辑]

1. ^ ^{1.0 1.1 1.2 1.3 1.4} 深圳先进电子材料国际创新研究院. www.siem.ac.cn. [2024-02-05]. 
2. ^ 深圳先进电子材料国际创新研究院. www.siem.ac.cn. [2024-02-05]. 
3. ^ 深圳先进电子材料国际创新研究院园区正式启用-深圳政府在线_深圳市人民政府门户网站. www.sz.gov.cn. [2024-02-05].